Informazioni di Base.
Model No.
CY- VTC-300USS
Marchio
cicoso
Origine
Zhengzhou China
Capacità di Produzione
860 set/mese
Descrizione del Prodotto
Spalmatrice a ultrasuoni Spin-Spray (300-3000 rpm, max wafer 12") CY-VTC-300USS
Descrizione del prodotto
CY-VTC-300USS È un 'economica spalmatrice a ultrasuoni Spin-Spray per processo di rivestimento in fase liquida e ultra uniforme su un grande substrato fino a 12". Il sistema Consiste di (1) una spalmatrice a rotazione da 12" Con il mandrino a vuoto, (2) un ugello di spruzzatura ultrasonica assistito ad aria compressa montato su un braccio oscillante, (3) una pompa a siringa riscaldabile, e (4) un sistema di lampada termica per il riscaldamento del substrato.
Specifiche
Imballaggio e spedizione
I nostri servizi
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6. Rich esperienza. Noi facciamo Servizi OEM . I nostri Clienti Sono In tutto Il mondo Come Stati Uniti, Regno Unito, Russia, Corea, Sud-est
Asia , ecc. In modo Che Siamo Abbastanza Esperti.
7. Certificate: Tutti I nostri prodotti Sono Omologati CE.
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Contattaci:
Addrees dell'azienda: No 820, 8 ° piano, 1 ° unità, 9 ° blocco, Via Cuizhu, High-Tech zone, Zhengzhou, Henan, Cina
Descrizione del prodotto
CY-VTC-300USS È un 'economica spalmatrice a ultrasuoni Spin-Spray per processo di rivestimento in fase liquida e ultra uniforme su un grande substrato fino a 12". Il sistema Consiste di (1) una spalmatrice a rotazione da 12" Con il mandrino a vuoto, (2) un ugello di spruzzatura ultrasonica assistito ad aria compressa montato su un braccio oscillante, (3) una pompa a siringa riscaldabile, e (4) un sistema di lampada termica per il riscaldamento del substrato.
Specifiche
| Caratteristiche | Combina i vantaggi di spin e spray, consentendo un rivestimento in fase liquida denso e uniforme su un substrato di grandi dimensioni Le applicazioni includono precipitazione a bassa temperatura (ad esempio, per deposizione di ferriti RF/microonde), rivestimento polimerico, rivestimento in polvere e materiale composito e rivestimento su un substrato modellato/irregolare Il sistema funziona anche solo con la rotazione e con la spruzzatura modalità |
| Ruota la spalmatrice | Pezzo sottovuoto con supporti regolabili per sostrato piatto fino a 12 " di diametro o 8 " quadrato Una pompa senza olio per il pezzo sottovuoto è inclusa e. Controllato dal rotatore Velocità di rotazione: 300 - 3000 giri/min regolabile Per motivi di sicurezza, si consiglia di limitare la velocità a 2000 giri/min per i wafer di dimensioni superiori a 8" |
| Ugello a spruzzo a ultrasuoni | Un generatore a ultrasuoni con due ugelli a ultrasuoni spray con compresso è incluso il formatore d'aria Sono inclusi due ugelli di irrorazione con l'adattatore KF-25. Un tipo cilindrico -- spruzzo più stretto ~20 mm di diametro Tipo a cono singolo -- spray più largo ~40 mm di diametro Pressione aria compressa consigliata per soluzione acquosa: ~2 psi Un flussometro è integrato per la regolazione e il monitoraggio di flusso di aria compressa Gamma di viscosità del fluido: 1 - 50 mPa· s (CP) Un braccio oscillante per il montaggio della testa a spruzzo a ultrasuoni è incorporato con velocità e gamma di movimento regolabili |
| Pompa a siringa riscaldabile | Una pompa a siringa riscaldabile con controllo touch screen LCD è incluso per l'erogazione di liquido all'ugello a ultrasuoni Una siringa da 50 ml è inclusa per l'uso immediato. L'unità può contenere siringhe con diametro 0.4 - 30 mm Velocità di pompaggio: 0.1 - 45 mm/min regolabile (0.08 ml/min - 35 ml/min per la siringa da 50 ml inclusa) Riscaldatore flessibile in poliammide con controller di temperatura programmabile a 30 segmenti IS Incorporato per riscaldamento fino a 75 °C. |
| Spia di riscaldamento e controllo | Lampade Duo Heat (potenza massima 1000 W. Fino a 80 ºC) con termocoppia e controller di temperatura possono essere ordinati a un costo aggiuntivo per il riscaldamento del substrato mediante radiazione (fino a 65 ºC con substrato metallico da 12") |
| Opzionale | CY Consiglia vivamente di posizionare il spalmatore spin-spray all'interno di una cappa chimica per motivi di salute e sicurezza. Il sistema spin-spray senza lampada termica può essere montato sulla cappa chimica da banco CY È possibile ordinare e montare un'unità di irrorazione a ultrasuoni secondaria sul braccio oscillante per il processo di co-deposizione o coprecipitazione Per la suddetta applicazione, è possibile ordinare una pompa a siringa riscaldabile a due canali, controllata in modo indipendente, a un costo aggiuntivo per sostituire la pompa a siringa standard Gruppo Flash sottovuoto per processo VASP (Flash-Assisted Solution Process) sottovuoto fai da te, è Disponibile fino a 5 mTorr |
| Requisiti di utilità | Potenza: 208 - 240 VCA, 50/60 Hz, 3000 W in totale Gas: Aria compressa da ~2 psi per l'ugello a ultrasuoni. Il compressore dell'aria è disponibile anche per l'ordine presso TN |
| Peso netto | 160 lb |
| Peso e dimensioni di spedizione | n. 1: 423 lb, 48x40x42" n. 2: 155 lb, 48x40x35" |
| Conformità | Certificazione CE |
| Garanzia | Un anno limitato con supporto a vita Arrugginimento e danni dovuti a condizioni di stoccaggio o manutenzione non corrette non sono coperti da garanzia |
| Note applicative | L'immagine a sinistra mostra un esempio di spray per centrifuga configurazione completa della spalmatrice È responsabilità dell'utente comprendere i rischi associati al processo e utilizzare le protezioni appropriate. I solventi e i prodotti chimici utilizzati per il processo possono essere velenosi, ossidanti o corrosivi. La rotazione di un substrato grande/pesante ad alta velocità comporta il rischio potenziale di un'eventuale dispersione del substrato. Si consiglia di indossare indumenti protettivi, maschere, occhiali e guanti. Il processo deve essere confinato in una cappa chimica (da ordinare nella sezione opzionale) con una capacità di gestione dello scarico adeguata. Durante gli esperimenti, tenere il telaio della cappa chimica (sportello della finestra) più in basso rispetto alla fase di spinner. La qualità del rivestimento della pellicola dipende dalla viscosità della soluzione, dalla velocità di rotazione del substrato, dal riscaldamento del substrato e dai parametri di spruzzo a ultrasuoni, ecc. Si consiglia all'utente di sperimentare i parametri di lavorazione per ottenere risultati ottimali Non lavare eccessivamente il recipiente/base dell'acqua con liquidi di qualsiasi tipo. Il liquido in eccesso potrebbe fuoriuscire nell'albero motore e causare danni. Utilizzare un panno in tessuto per eliminare i residui di liquido presenti nella prua/base. Per ulteriori dettagli sulle procedure di pulizia, consultare le istruzioni di pulizia per le rotocavigatrici Per ottenere una qualità di rivestimento ottimale, si consiglia di pulire il substrato con un detergente per plasma (fare clic sulle immagini in basso per ulteriori dettagli) prima di applicare il rivestimento. Ridurrà significativamente la tensione superficiale sui substrati Articoli di riferimento Forte accoppiamento magnetoelettrico in ferrite/eterostrutture multiferroiche ferroelettriche derivate da bassa temperatura Deposizione spin-spray Elettrodi a nanotubo di carbonio a parete singola con deposizione per spin- and Spray per celle solari organiche Assemblaggio rapido di pellicole nanocomposite funzionali utilizzando l'elaborazione Spin-Spray Layer-by-Layer |
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